等离子体沉积薄膜
用等离子体聚合介质膜可保护电子元件，用等离子体沉积导电膜可保护电子电路及设备免遭静电荷积累而引起损坏，用等离子体沉积薄膜还可以制造电容器元件。在电子工业、化学工业、光学等方面有许多应用。等离子体沉积硅化合物。用sih4+n2o〔或si(oc2h4)+o2〕，碎玻璃清洗机，制成sioxhy。气压1～5托（1托≈133帕），电源13.5兆赫。氮化硅沉积用sih4+sih3+n2。温度300℃，沉积率约180埃/分。非晶碳化硅膜由加含碳的共反应剂得sixc1+x：h，x是si/si+c比例。硬度大于2500千克/毫米2。
大幅度提高材料表面附着力
输出等离子体能量较国内同类产品高40%，在相同处理效果下，可使流水线运行速度更快；
具备外来信号输入接口，与其他设备实现无障碍同步运行；
宽泛的环境适应性。外界电网不稳、高温高污染环境均能稳定运行；
---8000小时平均---时间，稳定性达到同类德国产品的水准；
操作简单、安装方便
社会上玻璃的废弃物和生产中产生的玻璃碎片、不合格玻璃，生产碎玻璃清洗机，统称为碎玻璃。将碎玻璃作为玻璃生产中的配合料，不仅可以利用废物，碎玻璃清洗机生产厂家，减轻环境负荷，而且可以降低生产成本。碎玻璃的用量，在玻璃行业中历来见解不同，一般认为只能达到配合料的25%～30%较好，熔制钠钙硅酸盐玻璃时，碎玻璃
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